2nm研發(fā)順利、3nm持續(xù)滿載

據(jù)估計，臺積電第三季與第四季3、5納米稼動率幾乎滿載，進入排單階段，3納米滿載盛況更延續(xù)至2025年。另外，臺積電透露，N2研發(fā)進展順利，將如期在2025年進入量產(chǎn)、N2P預計在2026年下半年量產(chǎn)。

隨著半導體制造工藝節(jié)點的不斷縮小，對環(huán)境潔凈度的要求也越來越高，需要管控的污染物已不僅局限在顆粒灰塵及各種懸浮物，而是精確到了氣態(tài)分子污染物（AMC）。

AMC分類

國內(nèi)曾統(tǒng)計過，在無潔凈級別要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%，64位儲存器僅2%。可見，潔凈環(huán)境對產(chǎn)品工藝良率的影響巨大。

為了滿足對先進工藝的迫切需求和對良率提升的挑戰(zhàn)，億天凈化提供的 AMC 檢測 控制 監(jiān)測一站式解決方案，可根據(jù)客戶的需求提供多方面的專業(yè)服務，以保障對AMC的嚴格控制。

AMC 檢測

對半導體潔凈室進行AMC采樣，通過技術診斷分析，確認AMC主要成分及濃度，針對性提出最匹配實際環(huán)境需求的解決方案，達到最佳空氣凈化效果。?

AMC 控制

化學過濾器是去除AMC的關鍵技術?；瘜W過濾器采用了先進的材料和技術，不僅具備出色的選擇性吸附能力，而且能夠根據(jù)污染物的種類和濃度進行定制，以適應不同工藝階段的需求，確保在各個關鍵工藝中對AMC的高效去除。

AMC 監(jiān)測

為了實時掌握AMC含量濃度，確保污染控制的持續(xù)穩(wěn)定性，還需搭建AMC在線監(jiān)測系統(tǒng)，對潔凈室內(nèi)AMC含量濃度等環(huán)境參數(shù)進行實時監(jiān)測，實時掌握空氣潔凈度的變化趨勢，以及任何一次超出控制的異常情況，讓污染物在對工藝、產(chǎn)品可能產(chǎn)生不良影響之前就采取措施，清除可能的不良作業(yè)、污染源和污染事件。 

對AMC污染的控制是一項至關重要和復雜的任務，它涉及多個層級，要求方案精確且全面。除了以上的控制措施，還應該從選址、人員操作、材料設備等源頭進行控制，來有效降低AMC的濃度，保證半導體制造過程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量的可靠性。